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7nm说起来容易!真干起来英特尔三星都说难

责任编辑:editor006 作者:张金梁 |来源:企业网D1Net  2017-03-03 17:08:20 本文摘自:中关村在线

据外媒报道,英特尔在14nm支撑上已经推三代产品,至于10nm工艺也仅仅表示在今年进行试验性生产。为什么会这样呢,对此三星和英特尔的专家纷纷坦言,只要是受困于EUV(极紫外光刻)推进的困难。

7nm说起来容易!真干起来英特尔三星都说难

  英特尔三星说EUV光刻机仍面临不少商用难题(图片来自baidu)

英特尔以及三星等在加州举办的国际光电工程学会(SPIE)年度会议上表示,用于10nm以下芯片生产的关键技术或者说设备EUV(极紫外光刻)光刻机仍面临不少商用难题。

三星表示去年底他们生产出了首款EUV光罩,瑕疵已经很少。不过,三星表示,他们仍然认为EUV可用于其7nm制程节点。

至于英特尔则是从1992年就着手开发,去年底为晶圆厂出货其首款达到商用品质的EUV光罩,目前已经参与到14、10和7nm无缺陷网线生产。在现有的8个核心EUV计划中,有6项计划已经准备好或即将就绪。英特尔EUV计划负责人Britt Turkot指出,用于覆盖EUV晶圆的防尘薄膜仍在开发中,而用于检测EUV光罩的新工具也还验证中。

与三星激进的做法不同,英特尔表示需等待完全成熟后导入。英特尔EUV小组专家Britt Turkot称,虽然其可作业时间超过了75%,但一旦运行,光罩问题就会层出不穷。

目前在最高端的沉浸式光刻机中,荷兰ASML(阿斯麦)占有80%的份额,其中NXE 3350B是全部14套EUV系统中的绝对主力(累计6套),而其单价高达6亿元人民币,等同于一台F35战斗机的价格。

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关键字:英特尔 EUV 真干

本文摘自:中关村在线

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