责任编辑：zsheng | 2018-05-16 20:44:23 本文摘自：ZOL中关村在线
随着硬件工艺制程不断缩减，传统光刻技术已经无法满足未来半导体芯片的制造要求，而EUV极紫外光刻技术被认为是未来10nm、7nm、5nm甚至3nm制程工艺芯片制造的核心技术。
众所周知，中国在半导体芯片技术研发和制造方面均落后于国外，大多时候仅扮演代工者的角色，一旦与国际芯片企业的合作出现问题，国内厂商很有可能面临危机。中芯国际这次采购行为表明了其帮助提升中国本土半导体制造技术的抱负日益增强。
此前，全球顶级芯片巨头英特尔、三星电子和台积电均已经向ASML订购了多套EUV系统，以确保更强大、更先进芯片的后期生产，中芯国际此举从长远来看势在必行。
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责任编辑：zsheng | 2018-05-16 20:44:23 本文摘自：ZOL中关村在线
随着硬件工艺制程不断缩减，传统光刻技术已经无法满足未来半导体芯片的制造要求，而EUV极紫外光刻技术被认为是未来10nm、7nm、5nm甚至3nm制程工艺芯片制造的核心技术。
众所周知，中国在半导体芯片技术研发和制造方面均落后于国外，大多时候仅扮演代工者的角色，一旦与国际芯片企业的合作出现问题，国内厂商很有可能面临危机。中芯国际这次采购行为表明了其帮助提升中国本土半导体制造技术的抱负日益增强。
此前，全球顶级芯片巨头英特尔、三星电子和台积电均已经向ASML订购了多套EUV系统，以确保更强大、更先进芯片的后期生产，中芯国际此举从长远来看势在必行。
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