“在iPhone、华为P20等明星智能手机中，手机芯片制程已经达到10nm级别，巴斯夫客户中有的芯片厂商已经具备了7nm和5nm的制程水平。要实现如此精密的芯片生产工艺，就需要万亿分之一级别的超纯纯度化学制品。‘万亿分之一’就好比，一滴水之于20个奥运会游泳池的体积之比。”言甯璿说道，“在制造小于10纳米单位数节点晶片的过程中需要经过数百道清洗工序，巴斯夫嘉兴装置所生产的硫酸在性能水平上已经超越了当今速度最快、性能最优的半导体标准要求，其质量与稳定性在业内首屈一指。”
咨询机构SEMI数据显示，2017年全球晶元出货金额已经达到4000亿美元，而中国在半导体设备资本支出方面的增长速度将远高于全球平均水平。巴斯夫预计，2019年，中国大陆芯片厂商将实现14nm制程工艺，2020年达到7-10nm水平，快速追赶国际顶尖工艺水准。
巴斯夫中国区总经理窦峥透露，嘉兴工厂将主要向北京、上海、南京、重庆、成都、厦门等城市的芯片厂商供货，同时，“长三角目前仍是中国芯片业需求量最大的地区之一，这也是巴斯夫选址嘉兴的主要原因之一。” 另据介绍，巴斯夫正在研发更高纯度的十千万亿分之一的超纯工艺，言甯璿透露，在与巴斯夫合作的顶尖芯片厂商实验室中，巴斯夫已经能为4nm制程提供完全符合要求的超纯化学品。
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